更新時(shí)間：2023-12-12
Renishaw雷尼紹光柵傳感器 RCDMRCDM是一種直接在盤面上刻劃刻度的一體式玻璃碼盤，具有單個(gè)參考零位位置和光學(xué)準(zhǔn)直調(diào)整帶。光學(xué)準(zhǔn)直調(diào)整帶可用于減少準(zhǔn)直誤差并提高安裝精度。提供20 µm或40 µm兩種柵距的增量式刻線類型，有多種尺寸可選（20 µm：直徑30 mm至108 mm，40 µm：直徑17 mm至108 mm）。
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Renishaw雷尼紹光柵傳感器 RCDM
RCDM是一種直接在盤面上刻劃刻度的一體式玻璃碼盤，具有單個(gè)參考零位位置和光學(xué)準(zhǔn)直調(diào)整帶。光學(xué)準(zhǔn)直調(diào)整帶可用于減少準(zhǔn)直誤差并提高安裝精度。
提供20 µm或40 µm兩種柵距的增量式刻線類型，有多種尺寸可選（20 µm：直徑30 mm至108 mm，40 µm：直徑17 mm至108 mm）。
Renishaw雷尼紹光柵傳感器 RCDM
柵尺名稱 | 柵距 | 20 oC時(shí)的熱膨脹系數(shù) | 碼盤外徑 | 讀數(shù)頭兼容性 |
RCDM  | 20 µm/40 µm | ~8 µm/m/°C | 17 mm至108 mm | ATOM、ATOM DX |
柵尺名稱 | 精度 | 柵距 | 20 °C時(shí)的熱膨脹系數(shù) | 供應(yīng)長(zhǎng)度 | 讀數(shù)頭兼容性 |
RTLF  | 20 µm：±5 μm/m 40 µm（高精度）：±5 µm/m | 20 µm/40 µm | 10.1 ±0.2 µm/m/°C | 最長(zhǎng)10 m（可根據(jù)要求提供10 m以上長(zhǎng)度） | ATOM、ATOM DX |
柵尺名稱 | 精度 | 柵距 | 20 °C時(shí)的熱膨脹系數(shù) | 供應(yīng)長(zhǎng)度 | 讀數(shù)頭兼容性 |
RTLC配用可選FASTRACK  | 20 µm：±5 μm/m 40 µm（高精度）：±5 µm/m | 20 µm/40 µm | 10.1 ±0.2 µm/m/°C | 最長(zhǎng)10 m（可根據(jù)要求提供10 m以上長(zhǎng)度） | VIONiC、QUANTiC、TONiC、TONiC UHV、TONiC FS |
配有可選FASTRACK的RTLA  | 30 µm：±5 µm/m 50 µm：±10 µm/m | 30 µm/50 µm | 10.1 ±0.2 µm/m/°C | RESOLUTE：最長(zhǎng)21 m EVOLUTE：最長(zhǎng)10.02 m | RESOLUTE、RESOLUTE UHV、RESOLUTE FS、EVOLUTE |
柵尺名稱 | 精度 | 柵距 | 熱膨脹系數(shù) | 供應(yīng)長(zhǎng)度 | 讀數(shù)頭兼容性 |
RKLC-S、RKLR-S  | 20 µm：±5 μm/m 40 µm（高精度）：±5 µm/m 40 µm：±15 μm/m | 20 µm/40 µm | 使用端壓片將柵尺端部固定到基體后，柵尺的伸縮將與基體材料保持一致 | 最長(zhǎng)20 m（可根據(jù)要求提供20 m以上長(zhǎng)度） | VIONiC、TONiC、TONiC UHV、QUANTiC |
RKLF-S  | 20 µm：±5 μm/m 40 µm（高精度）：±5 µm/m 40 µm：±15 μm/m | 20 µm/40 µm | 使用端壓片將柵尺端部固定到基體后，柵尺的伸縮將與基體材料保持一致 | 最長(zhǎng)10 m（可根據(jù)要求提供10 m以上長(zhǎng)度） | ATOM、ATOM DX |
RKLA-S  | ±5 μm/m | 30 µm | 使用端壓片將柵尺端部固定到基體后，柵尺的伸縮將與基體材料保持一致 | 最長(zhǎng)21 m | RESOLUTE |
柵尺名稱 | 精度 | 柵距 | 20 °C時(shí)的熱膨脹系數(shù) | 供應(yīng)長(zhǎng)度 | 讀數(shù)頭兼容性 |
RELM20/RELE20  | 1 m內(nèi)為±1 µm，1 m以上為±1 µm/m | 20 µm | 0.75 ±0.35 µm/m/°C | 最長(zhǎng)1.5 m | VIONiC、TONiC、TONiC UHV、TONiC FS |
RELA30  | 1 m內(nèi)為±1 µm，1 m以上為±1 µm/m | 30 µm | 0.75 ±0.35 µm/m/°C | 最長(zhǎng)1.5 m | RESOLUTE、RESOLUTE UHV、RESOLUTE FS |
柵尺名稱 | 精度 | 柵距 | 20 °C時(shí)的熱膨脹系數(shù) | 供應(yīng)長(zhǎng)度 | 讀數(shù)頭兼容性 |
RSLM20/RSLE20/RSLC20 | 1 m內(nèi)為±1.5 µm，2 m內(nèi)為±2.25 µm，3 m內(nèi)為±3 µm，5 m內(nèi)為±4 µm | 20 µm | 10.1 ±0.2 µm/m/°C | 最長(zhǎng)5 m | VIONiC、TONiC、TONiC UHV、TONiC FS |
RSLA30 | 1 m內(nèi)為±1.5 µm，2 m內(nèi)為±2.25 µm，3 m內(nèi)為±3 µm，5 m內(nèi)為±4 µm | 30 µm | 10.1 ±0.2 µm/m/°C | 最長(zhǎng)5 m | RESOLUTE、RESOLUTE UHV、RESOLUTE FS |
柵尺名稱 | 精度 | 柵距 | 熱膨脹系數(shù) | 供應(yīng)長(zhǎng)度 | 讀數(shù)頭兼容性 |
RCLC  | ±3 µm | 20 µm/40 µm | ~8 µm/m/°C | 最長(zhǎng)130 mm | ATOM、ATOM DX |
柵尺名稱 | 精度 | 柵距 | 20 °C時(shí)的熱膨脹系數(shù) | 供應(yīng)長(zhǎng)度 | 讀數(shù)頭兼容性 |
RKLC-S  | 20 µm：±5 μm/m 40 µm：±15 μm/m | 20 µm/40 µm | 10.1 ±0.2 μm/m/°C | 最長(zhǎng)20 m（可根據(jù)要求提供20 m以上長(zhǎng)度） | VIONiC、TONiC、QUANTiC |
RKLF-S  | ±15 μm/m | 40 µm | 10.1 ±0.2 μm/m/°C | 最長(zhǎng)10 m（可根據(jù)要求提供10 m以上長(zhǎng)度） | ATOM、ATOM DX |
RKLA-S  | ±5 μm/m | 30 µm | 10.1 ±0.2 μm/m/°C | 最長(zhǎng)21 m | RESOLUTE |
柵尺名稱 | 刻劃精度（取決于圓環(huán)直徑） | 柵距 | 20 oC時(shí)的熱膨脹系數(shù) | 圓環(huán)直徑 | 讀數(shù)頭兼容性 |
RESM  | ±3.97至±0.38角秒 | 20 µm/40 µm | 15.5 ±0.5 µm/m/°C | 52 mm至550 mm | VIONiC、TONiC、TONiC UHV、TONiC FS、QUANTiC |
RESA30  | ±3.97至±0.38角秒 | 30 µm | 15.5 ±0.5 µm/m/°C | 52 mm至550 mm | RESOLUTE、RESOLUTE UHV、RESOLUTE ETR、RESOLUTE FS |
柵尺名稱 | 安裝精度（取決于圓環(huán)直徑） | 柵距 | 20 oC時(shí)的熱膨脹系數(shù) | 圓環(huán)直徑 | 讀數(shù)頭兼容性 |
REXM20/REXT20  | （直徑 ≥ 100 mm）±1角秒 | 20 µm | 15.5 ±0.5 µm/m/°C | 52 mm至417 mm | VIONiC、TONiC、TONiC UHV |
REXA30  | （直徑 ≥ 100 mm）±1角秒 | 30 µm | 15.5 ±0.5 µm/m/°C | 52 mm至417 mm | RESOLUTE、RESOLUTE UHV、RESOLUTE ETR、RESOLUTE FS |
柵尺名稱 | 柵距 | 20 oC時(shí)的熱膨脹系數(shù) | 碼盤外徑 | 讀數(shù)頭兼容性 |
CSF40  | 40 µm | 15.5 ±0.5 µm/m/°C | 固定選項(xiàng)： 螺栓：38.4 mm至120 mm 夾具：31 mm至120 mm 如需其他尺寸，請(qǐng)聯(lián)系雷尼紹 | ATOM DX |
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